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半導体および電子産業向けクリーンルームソリューション

2025-07-31

最新の企業ニュース 半導体および電子産業向けクリーンルームソリューション

単一の要件と基準

  • 極端 な 清潔 な 要求: ISO 5〜7級 (クラス100〜10,000) が優勢で,ISO 4 (クラス10) を要求する高度なパッケージングエリアで,粒子の制御は≥0.1μmである.
  • 多次元制御温度 (20-24°C±0.1°C),湿度 (40-50%±2%),振動 (≤50μm/s),静電 (≤100V) を同時に管理する.
  • 国際基準: SEMI S2,ISO 14644,および電子機器のGMPに準拠し,異なる生産段階間の厳格なプロセス隔離要件を満たす必要があります.

基本ソリューション

空気浄化システム

  • フィルタリング階層: 前フィルター (G4) + 中程度の効率のフィルター (F9) + 低低効率のフィルター (H13) + 端末ULPAフィルター (≥0.12μmの粒子の効率99.999%).
  • 空気流の設計: 完全カバー 単方向流量 (0.45m/s±20%) 核心エリアで,空気交換速度は最大500回/時間です.
  • 圧力制御: 交差汚染を防ぐために,傾斜圧差 (隣接するゾーン間の≥5Pa).

汚染対策

  • 材料管理: 入荷物資のためのエアロック,専用の開封と清掃手順,TOC ≤10ppbの超純水 (18.2MΩ·cm)
  • 表面処理: 溶接したステンレス鋼壁 (304/316L),シームレスPVC床,シリコンのない密封剤.
  • 化学的制御: エッチングプロセスの局所排気システム,酸性ガス除去効率 ≥99%

精密な運用戦略

  • インテリジェント監視: リアルタイム粒子カウンター,温度/湿度センサー,IoTベースの集中制御システム
  • エネルギー最適化: 熱回収装置 (エネルギー節約≥30%),変頻ファン,LEDクリーンルーム照明.
  • メンテナンス プロトコル: HEPA/ULPAフィルターの完全性試験を四半期ごとに実施し,毎月気流速を検証し,年間包括的な性能検証を行います.

将来の傾向

  • ミニチュア化■ 3nmおよびより小さなプロセスノードに適応するためのISO 3 (クラス1) クリーンルームへの開発
  • 緑のイノベーション低VOC材料の採用と再生可能エネルギーの統合
  • デジタル変革仮想運用のためのAI駆動予測保守とデジタルツイン

半導体クリーンルームには 極度の清潔さ プロセス安定性 運用効率のバランスが必要です知的管理システムこれらの重要な施設は,高性能電子部品の生産を支援しています.

102広東省広州市,パンユ地区,シキ町,ヨンシャン村,ヨンフェン道路4号23号ビル E-mail: sales01@gzkunling.com Tel: +8613316272505 Tel: +8613316272505
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