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半導体および電子産業向けクリーンルームソリューション

2025-07-31

最新の企業ニュース半導体および電子産業向けクリーンルームソリューション

独自の要件と基準

極度の清浄度要求: ISO 5-7グレード（クラス100～10,000）が主流で、高度なパッケージングエリアでは、粒子≥0.1μmを制御するためにISO 4（クラス10）が必要。
多次元制御: 温度（20～24℃±0.1℃）、湿度（40～50%±2%）、振動（≤50μm/s）、静電気（≤100V）を同時に管理。
国際規格: 電子機器向けSEMI S2、ISO 14644、GMPに準拠する必要があり、異なる製造段階間の厳格なプロセス分離要件がある。

主要なソリューション

空気清浄システム

ろ過階層: プレフィルター（G4）+中性能フィルター（F9）+サブ高性能フィルター（H13）+ターミナルULPAフィルター（≥0.12μmの粒子に対して99.999%の効率）。
気流設計: 主要エリアにおける全域一方向流（0.45m/s±20%）、空気交換率は最大500回/時。
圧力制御: 相互汚染を防ぐための、隣接ゾーン間の勾配圧力差（≥5Pa）。

汚染制御対策

材料管理: 入荷材料用のエアロック、専用の開封および洗浄手順、TOC≤10ppbの超純水（18.2MΩ·cm）。
表面処理: 溶接されたステンレス鋼壁（304/316L）、シームレスPVC床、およびシリコーンフリーのシーラント。
化学物質管理: エッチングプロセス用の局所排気システム、酸性ガス除去効率≥99%。

リーンオペレーション戦略

インテリジェントモニタリング: リアルタイムの粒子カウンター、温度/湿度センサー、およびIoTベースの一元管理システム。
エネルギー最適化: 熱回収ユニット（省エネ≥30%）、可変周波数ファン、およびLEDクリーンルーム照明。
メンテナンスプロトコル: 四半期ごとのHEPA/ULPAフィルター完全性試験、月ごとの風速検証、および年次包括性能検証。

今後のトレンド

小型化: 3nm以下のプロセスノードに対応するためのISO 3（クラス1）クリーンルームへの開発。
グリーンイノベーション: 低VOC材料の採用と再生可能エネルギーの統合。
デジタルトランスフォーメーション: AIを活用した予知保全と、仮想試運転のためのデジタルツイン。

半導体クリーンルームは、極度の清浄度、プロセスの安定性、および運用効率のバランスを必要とします。高度なろ過技術、精密な環境制御、およびインテリジェントな管理システムを統合することにより、これらの重要な施設は、高性能電子部品の製造をサポートします。

102広東省広州市,パンユ地区,シキ町,ヨンシャン村,ヨンフェン道路4号23号ビル E-mail: sales01@gzkunling.com Tel: +8613316272505 Tel: +8613316272505

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